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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111092009B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910992484.5，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权基片处理装置是由斋藤道茂;金子彰太;山边周平设计研发完成，并于2019-10-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基片处理装置。基片处理装置包括：处理容器；载置台，其配置在上述处理容器的内部，能够载置基片；配置在上述处理容器与上述载置台之间的形成阳极的部件，上述部件具有供热交换介质流动的流路。本发明能够提高热响应性。

本发明授权基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：具有第一开口部的等离子体处理室；中空沉积物遮挡件，其设置于所述等离子体处理室内，规定等离子体处理空间，所述中空沉积物遮挡件在与所述第一开口部对应的位置具有第二开口部，所述中空沉积物遮挡件接地；和开闭所述第二开口部的中空开闭件，所述中空开闭件在关闭所述第二开口部时与所述中空沉积物遮挡件接触而接地，并且与所述中空沉积物遮挡件一起规定所述等离子体处理空间，所述中空沉积物遮挡件和所述中空开闭件的每一者具有：外壳部件，其具有在暴露于所述等离子体处理空间的面形成的内部空间；在所述内部空间的全部区域形成供热交换介质流动的流路的分隔部件；和设置于所述流路内的热交换促进部件，所述热交换促进部件具有格子结构以从内侧支承所述外壳部件，所述外壳部件和所述分隔部件由第一金属材料形成，所述热交换促进部件由第二金属材料形成，所述第二金属材料具有比所述第一金属材料高的热传导率和或比所述第一金属材料高的强度。

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