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龙图腾网恭喜湖南城市学院申请的专利一种真空饱和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113218725B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110364593.X，技术领域涉及：G01N1/28；该发明授权一种真空饱和装置是由邓宗伟;范子坚;邓浩;陈咏明;洪亮;张胜;梁宇航设计研发完成，并于2021-04-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种真空饱和装置在说明书摘要公布了：本发明适用于土工试样试验技术领域，提供了一种真空饱和装置，所述真空饱和装置包括：上腔体，底部为敞开结构且上部设置有第一阀门；下饱和缸体，顶部为敞开结构且设置有第二阀门；隔板，可拆卸的放置在上腔体和下饱和缸体之间，且开设有通孔；支撑底座，内部为中空结构，顶部设置有一个过滤结构，且支撑底座与通孔密封连接，用于试样的安装；其中，向上腔体的内部注入无气水并漫过饱和器顶部、通过第一阀门向上腔体内部加压；通过第二阀门对下饱和缸体内部抽气使其形成0.1Mpa的负压状态，通过上腔体和下饱和缸体的压差，使无气水渗透饱和器内部的试样，使试样达到饱和。本发明优点：结构简单，操作方便，饱和度高。

本发明授权一种真空饱和装置在权利要求书中公布了：1.一种真空饱和装置，其特征在于，所述真空饱和装置包括：上腔体，底部为敞开结构且上部设置有第一阀门；下饱和缸体，顶部为敞开结构且底部设置有第二阀门；隔板，可拆卸的放置在上腔体和下饱和缸体之间，且开设有通孔；支撑底座，内部为中空结构，顶部设置有一个过滤结构，且支撑底座与通孔密封连接，用于试样的安装；其中，向上腔体的内部注入无气水并漫过饱和器、通过第一阀门向上腔体内部加压；通过第二阀门对下饱和缸体内部抽气使其形成0.1Mpa的负压状态，利用上腔体和下饱和缸体的压差，使无气水渗透饱和器内部的试样，使试样达到饱和，上腔体、下饱和缸体、支撑底座和隔板为可组装结构，饱和器包括土样筒、下底板和上底板，饱和器的两端为贯穿结构，下底板和上底板的内部设置有饱和器过滤结构，其中下底板与通孔连通，饱和器过滤结构包括透水石和滤纸，透水石设置有两片并夹在滤纸两侧面。

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