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恭喜友达光电股份有限公司林瑜玲获国家专利权

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龙图腾网恭喜友达光电股份有限公司申请的专利透明电子装置及其制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114695395B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210348216.1,技术领域涉及:H10D86/60;该发明授权透明电子装置及其制造方法是由林瑜玲;柯聪盈设计研发完成,并于2022-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。

透明电子装置及其制造方法在说明书摘要公布了:一种透明电子装置及其制造方法,透明电子装置包括:有机膜、非晶质透明碳氧化物层以及矩阵层。有机膜包括含有羧基官能基‑COOH的聚合物。非晶质透明碳氧化物层设置于有机膜上,其中,非晶质透明碳氧化物层由金属元素、碳元素、氧元素及其它元素所组成,金属元素是选自钼Mo、铟In、锡Sn、锌Zn、镉Cd及其组合,且其它元素的原子数目百分比等于或大于零、且少于金属元素的原子数目百分比、氧元素的原子数目百分比以及碳元素的原子数目百分比中的最少者。矩阵层位于非晶质透明碳氧化物层上。

本发明授权透明电子装置及其制造方法在权利要求书中公布了:1.一种透明电子装置,包括:有机膜,其中所述有机膜包括含有羧基官能基的聚合物;非晶质透明碳氧化物层,设置于所述有机膜上,其中,所述非晶质透明碳氧化物层由金属元素、碳元素、氧元素及其它元素所组成,所述金属元素是选自钼、铟、锡、锌、镉及其组合,且所述其它元素的原子数目百分比等于或大于零、且少于所述金属元素的原子数目百分比、氧元素的原子数目百分比以及碳元素的原子数目百分比中的最少者;以及矩阵层,位于所述非晶质透明碳氧化物层上,其中,所述非晶质透明碳氧化物层中碳元素的原子数目百分比从所述有机膜往所述矩阵层的方向递减,且所述非晶质透明碳氧化物层中氧元素的原子数目百分比从所述有机膜往所述矩阵层的方向递增。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人友达光电股份有限公司,其通讯地址为:中国台湾新竹市;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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