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龙图腾网恭喜东京毅力科创美国制造与工程公司申请的专利用于在工艺室中旋转和平移衬底的系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110268513B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201880008769.4，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权用于在工艺室中旋转和平移衬底的系统和方法是由杰弗里·W·布特鲍设计研发完成，并于2018-01-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于在工艺室中旋转和平移衬底的系统和方法在说明书摘要公布了：本文公开了与用于在处理期间在工艺室内移动半导体衬底的处理系统有关的系统和方法。处理系统围绕枢转点以弧形运动在两个位置之间来回移动衬底，同时围绕衬底自身的中心点旋转衬底。

本发明授权用于在工艺室中旋转和平移衬底的系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于处理微电子衬底的设备，包括：工艺室，其包括内部容积，所述微电子衬底在处理期间被定位在所述内部容积中，所述内部容积能够保持在低于大气压的压力下；耦接至所述工艺室的枢转部件，所述枢转部件包括：设置在所述内部容积内的可枢转的摆臂，所述可枢转的摆臂包括位于所述摆臂的一端的枢转点，所述摆臂围绕所述枢转点以弧形运动范围枢转；以及耦接至所述摆臂的摇摆部件，所述摇摆部件在处理期间能够围绕所述枢转点来回枢转所述摆臂通过所述弧形运动范围，所述弧形运动具有角速度；耦接至所述摆臂的远端的可旋转的支撑部件，所述支撑部件包括：支撑表面，所述支撑表面在处理期间用于将微电子衬底固定至所述可旋转的支撑部件；以及耦接至所述支撑表面的衬底旋转部件，所述衬底旋转部件能够旋转所述支撑表面，使得所述微电子衬底在处理期间围绕所述微电子衬底的中心点旋转，所述微电子衬底的这种旋转具有角速度，并且其中所述枢转点和所述中心点彼此偏移；以及流体喷嘴，所述流体喷嘴以使得所述流体喷嘴与所述微电子衬底的所述中心点之间的相对位置随着所述摆臂移动通过所述弧形运动范围而变化的方式设置在所述内部容积内；以及控制器，所述控制器包括：使所述摆臂的运动范围内的弧形运动和所述微电子衬底的旋转同时发生的程序指令；程序指令，所述程序指令使所述可枢转的摆臂的弧形运动的角速度和所述微电子衬底的旋转的角速度中的至少一个角速度变化，使得所述至少一个角速度随着所述流体喷嘴相对远离所述微电子衬底的中心点定位而减小。

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