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龙图腾网恭喜山东泰宝信息科技集团有限公司申请的专利点光源识读激光加密防伪吊牌及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111554177B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-02-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010537354.5，技术领域涉及：G09F3/02；该发明授权点光源识读激光加密防伪吊牌及其制备方法是由田兴坡;张钦永;田学锋;田召普;张振;王克伟设计研发完成，并于2020-06-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本点光源识读激光加密防伪吊牌及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及防伪技术产品领域，具体涉及一种点光源识读激光加密防伪吊牌及其制备方法。所述的防伪吊牌包括从上到下依次设置的激光加密信息层、复制层、复合胶层、印刷层和纸质层，所述的激光加密信息层包含隐藏信息，隐藏信息在点光源下显现。本发明所述的点光源识读激光加密防伪吊牌，设有激光加密信息层，激光加密信息层内隐藏数字编码信息光栅结构，自然光下，加密信息隐藏，使用手持式点光源设备照射吊牌表层，呈现隐藏信息，消费者通过鉴别隐藏信息，判断产品真伪，便于消费者查询真伪；通过数学算法进行加密，防伪力度高，不易被破解伪造，增加仿制难度；本发明的制备方法，科学合理、简单易行。

本发明授权点光源识读激光加密防伪吊牌及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种点光源识读激光加密防伪吊牌，其特征在于：包括从上到下依次设置的激光加密信息层1、复制层2、复合胶层3、印刷层4和纸质层5，所述的激光加密信息层1包含隐藏信息，隐藏信息在点光源下显现；所述的点光源识读激光加密防伪吊牌的制备方法，包括以下步骤：1选择单面电晕的PET基膜，在电晕面涂布永久成像层；2激光加密信息层1模压版的制作：首先制作隐藏图案，将隐藏图案放置于极坐标系，根据系统抽样方法，随机抽取NN＝n*n个像素点，其中，n≥4，分别计算每个像素点到坐标系零点的距离ρ和夹角角度θ，根据每个像素点到坐标系零点的距离，得出一个n*n的矩阵，最终得出空频灰度图矩阵G；根据每个像素点到坐标系零点的夹角，得出一个n*n的矩阵，最终得出角度灰度图矩阵H，根据空频灰度图矩阵G和角度灰度图矩阵H，在光刻机中完成激光加密信息模压层的制版工作，得到激光加密信息层1模压版；3使用模压机将激光加密信息复制到永久成像层上，形成激光加密信息层1；4在激光加密信息层1上面涂布UV光油，形成复制层2；5在纸质层5上方印刷图文、二维码及防伪特征，形成印刷层4；6将加工好复制层2的PET基膜使用复合胶水与印刷层4复合在一起；7复合牢固后，将PET基膜和永久成像层剥离掉；8使用裁切机裁切成单个吊牌；所述的激光加密信息层1模压版的制作包括以下步骤：1根据设计文件，制作隐藏图案，建立极坐标系，将图案放置于极坐标系中零点处；2图案分辨率为a*b，图案中共由a*b个像素点组成，根据系统抽样方法，随机抽取NN＝n*n个像素点，其中，n≥4，使用计算机计算每个像素点的坐标值x1，y1、x2，y2、x3，y3、……xN，yN，以及每个像素点与零点的距离ρ1、ρ2、ρ3、……ρN；3根据极坐标系公式x＝ρcosθ，y＝ρcosθ，分别计算每个像素点与零点夹角角度θ1、θ1、θ1、……θN；4L为观察距离，是固定参量，β为光栅角度，d为光栅栅距，λ为激光器波长，根据tanβ＝ρL，可以求得β，根据光栅方程sinβ＝λd，可以求得光栅栅距d，此时可以建立每个光栅晶格的二维参量d1，θ1、d2，θ2、d3，θ3……dN，θN；5根据N个光栅晶格的光栅栅距d，可以得到一个矩阵如下：d1，d2，……………………dndn+1，dn+2，………………d2*n………………………………dn*n-1+1，dn*n-1+2，……dn*n计算得出d的最大值dmax和最小值dmin，最小值对应灰度值0，最大值对应灰度值255，按照此对应关系，可将N个d的值对应成另一个由灰度值组成的矩阵G，此矩阵便构成一幅灰度图，如下：G1，G2，……………………GnGn+1，Gn+2，………………G2*n………………………………Gn*n-1+1，Gn*n-1+2，……Gn*n；6根据了N个光栅晶格的角度θ，可以得到一个矩阵如下：θ1，θ2，……………………θnθn+1，θn+2，………………θ2*n………………………………θn*n-1+1，θn*n-1+2，……θn*n计算得出θ的最大值θmax和最小值θmin，最小值对应灰度值0，最大值对应灰度值255，按照此对应关系，可将N个θ的值对应成另一个由灰度值组成的矩阵H，此矩阵便构成一幅灰度图，如下：H1，H2，……………………HnHn+1，Hn+2，………………H2*n………………………………Hn*n-1+1，Hn*n-1+2，……Hn*n；7根据光刻空频灰度矩阵G与光栅角度灰度矩阵H，制作一个曝光单元，上述曝光单元尺寸是边长为nR毫米的正方形，其中R为光刻图的分辨率，10dpi＜R＜50800dpi；8将步骤7中的曝光单元阵列成设计尺寸，经过光刻工艺制作在光刻胶版上，经显影电镀后得到激光加密信息层模压版。

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