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摘要：本实用新型公开了一种检查曝光图案套合的掩膜结构，包含掩膜本体，所述的掩膜本体上设有第一对位尺和第二对位尺，所述的第一对位尺沿着X方向延展，所述的第二对位尺沿着Y方向延展，所述的第一对位尺上设有若干线性排列的第一对位尺孔，所述的第二对位尺上设有若干线性排列的第二对位尺孔。所述的第一对位尺孔和第二对位尺孔均呈矩形。在曝光作业的第一道形成方向的第一对位尺和方向的第二对位尺。接着，曝光第二道，又产生新的第一对位尺和第二对位尺，新的第一对位尺和第二对位尺与旧的第一对位尺和第二对位尺在和方向分别进行重叠，继而进行观测，操作人员可以轻松看出发生偏位的方向和具体的偏差程度，及时对曝光作业进行调整。
主权项：1.一种检查曝光图案套合的掩膜结构，其特征在于，所述的检查曝光图案套合的掩膜结构包含掩膜本体1，所述的掩膜本体1上设有第一对位尺2和第二对位尺3，所述的第一对位尺2沿着X方向延展，所述的第二对位尺3沿着Y方向延展，所述的第一对位尺2上设有若干线性排列的第一对位尺孔21，所述的第二对位尺3上设有若干线性排列的第二对位尺孔31。
权利要求：
百度查询： 信利光电股份有限公司 一种检查曝光图案套合的掩膜结构
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