龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：北京晶亦精微科技股份有限公司
申请日：2024-08-19
公开（公告）日：2024-12-06
公开（公告）号：CN119077609A
专利技术分类：...用于单侧研磨[2012.01]
专利摘要：本发明提供了一种电化学机械抛光设备，属于半导体制造技术领域，所述电化学机械抛光设备包括抛光台、抛光组件、抛光头以及电源，所述抛光台顶部凹陷形成凹槽；所述抛光组件包括位于上方的抛光垫和位于下方的阴极板，所述抛光垫和所述阴极板均位于所述凹槽内，且所述抛光垫的顶面低于所述抛光台的顶面；所述抛光头位于所述抛光台的上方，所述抛光头用于吸附晶圆；所述电源负极与所述阴极板电连接；其中，所述抛光台的外表面、所述凹槽的内表面、所述抛光头的外表面均设有绝缘层，所述凹槽内盛装有没过晶圆的电解液，所述电源的阳极与晶圆电连接，所述抛光台带动所述抛光组件旋转的同时，所述抛光头吸附晶圆抵接于抛光垫并带动晶圆旋转。
专利权项：1.一种电化学机械抛光设备，其特征在于，包括：抛光台，顶部凹陷形成凹槽；抛光组件，包括位于上方的抛光垫和位于下方的阴极板，所述抛光垫和所述阴极板均位于所述凹槽内，且所述抛光垫的顶面低于所述抛光台的顶面；抛光头，位于所述抛光台的上方，所述抛光头用于吸附晶圆；电源，负极与所述阴极板电连接；其中，所述抛光台的外表面、所述凹槽的内表面、所述抛光头的外表面均设有绝缘层，所述凹槽内盛装有没过晶圆的电解液，所述电源的阳极与晶圆电连接，所述抛光台带动所述抛光组件旋转的同时，所述抛光头吸附晶圆抵接于抛光垫并带动晶圆旋转，以实现晶圆的抛光。
百度查询： 北京晶亦精微科技股份有限公司 一种电化学机械抛光设备
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号