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摘要：本发明公开了一种聚焦环的控温方法、下电极组件及等离子体处理装置，所述下电极组件包括基座、绝缘环、聚焦环和设置在绝缘环内的控温组件，所述控温组件包括加热器和导热腔，加热器设置在绝缘环内，导热腔设置在绝缘环内加热器的下方，其内设有可形变部件；当加热器对聚焦环进行加热时，可形变部件与绝缘环或基座之间存在间隙，以减少聚焦环的热量损失，加快聚焦环升温；当加热器停止对聚焦环进行加热时，可形变部件膨胀，与绝缘环和基座均接触，绝缘环通过可形变部件传递热量至基座，以加快聚焦环的热量向基座传导，从而加快聚焦环降温。本发明的上电极组件结构简单，设计和加工难度低，具有较好的控制聚焦环温度的效果。
主权项：1.一种下电极组件，设置在等离子体装置的反应腔内，其特征在于，包括：基座，其包括中央区域，所述中央区域用于承载晶圆；绝缘环，设置在所述基座的中央区域的外围；聚焦环，设置在所述绝缘环的上方；控温组件，设置在所述绝缘环内，用于控制所述聚焦环的温度，所述控温组件包括：加热器，设置在所述绝缘环内；导热腔，设置在所述绝缘环内加热器的下方，其内设有可形变部件；当所述加热器对聚焦环进行加热时，所述可形变部件与所述绝缘环或基座之间存在间隙；当所述加热器停止对聚焦环进行加热时，所述可形变部件膨胀，所述可形变部件与绝缘环和基座均接触，所述绝缘环通过该可形变部件传递热量至基座。
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百度查询： 中微半导体(上海)有限公司 聚焦环的控温方法、下电极组件及等离子体处理装置
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