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摘要:本发明提供一种有机薄膜电致发光材料的沉积基质模式化处理方法,属于材料数据处理技术领域,包括:对有机薄膜电致发光材料的基质材料进行清洗,对清洗后的所述基质材料进行预处理;基于有机薄膜电致发光材料的性能需求确定整体结构图,并绘制掩膜图案;基于掩膜图案确定有机薄膜电致发光材料的第一区域,基于第一区域对基质材料进行沉积得到有机薄膜电致发光材料;计算得到的有机薄膜电致发光材料的层强度分布值、整体强度分布值以及总强度分布值,检测得到的有机薄膜电致发光材料并对掩膜图案进行优化。可以提高掩膜图案的精度性和匹配度,精确控制沉积的位置和形态,提高沉积的均匀性和精确度,提高材料的制备效率、制备质量以及材料性能。
主权项:1.一种有机薄膜电致发光材料的沉积基质模式化处理方法,其特征在于,包括:101:对有机薄膜电致发光材料的基质材料进行清洗,对清洗后的所述基质材料进行预处理;102:基于有机薄膜电致发光材料的性能需求确定整体结构图,并绘制掩膜图案;103:基于掩膜图案确定所述有机薄膜电致发光材料的第一区域,基于第一区域对基质材料进行沉积得到所述有机薄膜电致发光材料;104:计算得到的有机薄膜电致发光材料的层强度分布值、整体强度分布值以及总强度分布值,检测得到的有机薄膜电致发光材料并对掩膜图案进行优化;其中,基于掩膜图案确定所述有机薄膜电致发光材料的第一区域,包括:基于掩膜图案确定所述有机薄膜电致发光材料的模式化掩膜,基于模式化掩膜确定第一区域;其中,模式化掩膜包括所述有机薄膜电致发光材料的整体掩膜以及每个层结构的层掩膜;第一区域包括所述有机薄膜电致发光材料的整体掩膜区域以及每个层结构的所有层掩膜区域;其中,计算得到的有机薄膜电致发光材料的层强度分布值,包括:基于整体结构图测量得到的有机薄膜电致发光材料的整体掩膜区域以及每个层结构的所有层掩膜区域中所有测量点的表面高度;分别基于每个层结构的每个层掩膜区域中每个测量点的表面高度计算对应的频域特征; 其中,表示层结构i的第j个层掩膜区域内第k个测量点的频域特征,1,,,N1表示层结构数量,iN1表示层结构i的层掩膜区域数量,表示层结构i的第j个层掩膜区域内的测量点数量,表示层结构i的第j个层掩膜区域面积,表示层结构i的第j个层掩膜区域内第k个测量点的表面高度,中的分别表示层结构i的第j个层掩膜区域内第k个测量点在整体结构图中的方向坐标值、y方向坐标值、z方向坐标值,分别表示方向坐标、y方向坐标轴、z方向坐标轴在三维频率空间中的频率,l表示虚数单位;基于每个层结构的所有层掩膜区域内的所有测量点的频域特征确定所述层结构的层频域数组,其中,层频域数组中层结构的非层掩膜区域内的频域特征为0;分别基于层频域数组计算对应层结构的层强度分布值; 其中,表示层结构i的层强度分布值,表示层结构i的第j个层掩膜区域内第k个测量点的频域模长,表示层结构i的第j个层掩膜区域层强度均值,表示基质材料总面积,表示层结构i的所有层掩膜区域的总面积。
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