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摘要：本申请公开了一种热场装置，属于晶体生长技术领域。该热场装置包括装置本体、第一保温结构、第二保温结构和热反射结构；装置本体包括石英管和坩埚；第一保温结构包覆于坩埚的外部且具有位于坩埚上方的保温部分；热反射结构包括第一热反射层和第二热反射层，第一热反射层接触于石英管的内侧壁，第二热反射层接触于第一保温结构的位于坩埚上方的保温部分的内侧壁；第二保温结构压设于第一保温结构的位于坩埚上方的保温部分的顶壁。该热场装置在整体空间内的温度梯度得以减小，有效提升该热场装置在整体空间上的温度均匀性。
主权项：1.一种热场装置，其特征在于，所述热场装置包括：装置本体100、第一保温结构200、第二保温结构300和热反射结构400；所述装置本体100包括石英管11和位于所述石英管11内部的坩埚12；所述第一保温结构200包覆于所述坩埚12的外部且具有位于所述坩埚12上方的保温部分；所述热反射结构400包括第一热反射层41和第二热反射层42，所述第一热反射层41接触于所述石英管11的内侧壁，所述第二热反射层42接触于所述第一保温结构200的位于所述坩埚12上方的保温部分的内侧壁；所述第二保温结构300压设于所述第一保温结构200的位于所述坩埚12上方的保温部分的顶壁。
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