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申请/专利权人：中铁二局集团有限公司;中铁二局第六工程有限公司

摘要：本发明涉及一种明挖隧道群施工技术领域，特别是一种共墙隧道群的底部回填结构及其施工方法，其中，回填结构包括空腔，一端密封连接有第一封堵墙，另一端密封连接有第二封堵墙，空腔内设置有顶部回填层结构和底部回填层结构，顶部回填层结构和底部回填层结构共同充满空腔，顶部回填层结构为自密实材料填，底部回填层结构上具有第一顶面，第一顶面与内顶面之间存在第一间隙，空腔顶部还设置有入口。本申请的一种共墙隧道群的底部回填结构，先进行较矮隧道主体结构的施工，再进行空腔的填充施工时，能够方便地将空腔填满，施工难度底，同时全程均通过机械施工，能够保证施工工期。

主权项：1.一种用于形成共墙隧道群的底部回填结构的施工方法，其特征在于：所述共墙隧道群的底部回填结构包括空腔1，所述空腔1具有内顶面11，所述空腔1的一端密封连接有第一封堵墙2，所述空腔1的另一端密封连接有第二封堵墙4，所述空腔1内由上而下设置有顶部回填层结构7和底部回填层结构3，所述顶部回填层结构7和所述底部回填层结构3共同充满所述空腔1，所述顶部回填层结构7为自密实材料填充制成的结构件，所述底部回填层结构3上具有与所述顶部回填层结构7相接触的第一顶面312，所述第一顶面312与所述内顶面11之间存在第一间隙，所述内顶面11设置有至少一个与所述空腔1相连通的入口12，所述入口12用于将自密实材料的填充物填入所述空腔1；所述共墙隧道群还包括较矮隧道底板51、基坑底部8和共用侧墙61，较矮隧道底板51、基坑底部8和共用侧墙61围成所述空腔1，所有所述入口12均设置在较矮隧道底板51上；该施工方法包含以下步骤：S1.在所述空腔1的一端修筑所述第一封堵墙2，所述第一封堵墙2将所述空腔1的一端封闭；S2.在所述空腔1的另一端修筑所述第二封堵墙4，直至所述第二封堵墙4的上端面与所述内顶面11之间存在第二间隙，所述第二封堵墙4与所述空腔1的接触处密封设置，之后从所述第二封堵墙4上方将填充物运入并填充所述空腔1，直至形成所述底部回填层结构3，此时，所述第一顶面312与所述内顶面11之间存在第一间隙；S3.继续修筑所述第二封堵墙4，直至所述第二封堵墙4将所述空腔的一端封闭；S4.通过所述入口12将自密实材料填充至所述空腔1内，直至充满所述空腔1；其中，所述底部回填层结构3包括由上而下设置的至少两层回填区31，所述步骤S2具体包括以下施工步骤：S21、修筑所述第二封堵墙4，直至所述第二封堵墙4的上端面与所述内顶面11之间的最短距离大于或者等于6.6m；S22、利用大型回填机械从所述第二封堵墙4上方将填充物运入并填充所述空腔1，直至形成至少一层回填区31，其中，最上层的所述回填区31的上表面311与所述内顶面11之间的最短距离大于或者等于6.6m；S23、继续修筑所述第二封堵墙4，直至所述第二封堵墙4的上端面与所述内顶面11之间的最短距离大于或者等于3.3m，将所述第二封堵墙4与所述空腔1的接触处密封设置；S24、利用小型回填机械继续朝向所述空腔1内运入填充物，并填充剩余所述回填区31，直至形成所述底部回填层结构3。

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