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申请/专利权人：江苏亨通光导新材料有限公司;江苏亨通光电股份有限公司;江苏亨通光纤科技有限公司

摘要：本发明公开了提高光纤预制棒截止波长和模场直径均匀性的控制方法，包括以下步骤：制备光纤预制棒，将VAD制备的芯棒搭配成OVD沉积所需母棒并给定OVD目标设计外径；OVD开工后，将整根母棒不同测试点测算出的数据信息上传至OVD沉积机台控制系统，计算与目标截止波长、目标模场直径之间的偏差，进而重新计算不同测试点的目标设计外径，反算需沉积重量；OVD工艺沉积结束后，根据不同位置设计外径的大小差异化调节温度，进行烧结整形，使光棒外径趋于均匀。本发明在OVD法沉积过程中，根据母棒参数均匀性调控外包层直径沉积均匀性，再通过调节烧结温度来控制整体光棒直径均匀性，有效改善光纤预制棒拉丝截止波长和模场直径均匀性。

主权项：1.提高光纤预制棒截止波长和模场直径均匀性的控制方法，其特征在于，包括以下步骤：采用普通VAD+OVD沉积工艺制备光纤预制棒，将VAD工艺制备的芯棒根据测算出的截止波长和模场直径情况搭配成OVD沉积所需母棒并给定OVD目标设计外径，使得此目标设计外径下每个测试点测算出的母棒截止波长、模场直径最接近各自对应的目标值；OVD工艺开工后，将整根母棒不同测试点对应测算出的数据信息上传至OVD沉积机台控制系统，计算与目标截止波长、目标模场直径之间的偏差，进而重新计算不同测试点的目标设计外径，反算出整根棒不同区间需沉积重量，为保证不同区间实际沉积重量与上述计算值一致，进行人工干预；OVD工艺沉积结束后，将整根光棒置于烧结炉烧结，根据不同位置设计外径的大小差异化调节温度，进行烧结整形，使光棒外径趋于均匀；不同测试点的目标设计外径规则如表1所示：表1 其中，截止波长偏差Dcutoff、模场直径偏差DMFD分别定义为：Dcutoff＝实际截止波长-目标截止波长目标截止波长*100％DMFD＝实际模场直径-目标模场直径目标模场直径*100％。

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