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申请/专利权人：中国医学科学院放射医学研究所;四川大学

摘要：本发明属于辐射剂量估算分析技术领域，公开了一种牙釉质辐射剂量的预测方法、系统、存储介质及终端。选择与已准备的BGS基底和RIS基底一样的采样点，求得待预测样本对应点上的EPR谱图值；使用快速傅里叶变换对当前的待预测样本的EPR谱图进行降噪处理；通过改进矩阵，求得待预测样本的RIS强度；根据线性剂量响应关系，求得待预测样本的辐射剂量值。本发明计算量与原有矩阵方法持平，没有引入新的模型参数，参数数量少，拟合效果很好，拟合误差均小于1％，本发明可实现更低剂量的EPR牙釉质剂量估算，在小于0.3Gy的低剂量区内，计算所得的照射剂量值与真值相差≤16％。

主权项：1.一种基于矩阵算法和傅里叶变换的牙釉质辐射剂量预测方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一，将预测剂量样本的EPR谱图转换至g因子为横坐标的EPR谱图；步骤二，选择与已准备的BGS基底和RIS基底一样的采样点，求得待预测样本对应点上的EPR谱图值；将所有EPR谱图按照同一组采样点进行采样，采样区间为[1.990,2.015]，找出每个采样点最近的两个已知点，并将两个已知点连接起来构成线性变化，计算出相应的采样点的值；步骤三，使用快速傅里叶变换对当前的待预测样本的EPR谱图进行降噪处理；步骤四，通过改进矩阵，求得待预测样本的RIS强度；在基本矩阵法中加入截距项，进行纵坐标上的平移校正，改进矩阵公式为：fi1＝ai1x1+bi1x2+x3fi1是磁场i1处EPR波谱信号总强度，ai1和bi1为磁场i1点BGS基底数值和RIS基底数值；x1表示样本BGS部分与BGS基底相比的强度比值，x2表示样本RIS部分与RIS基底相比的强度比值，x3表示纵坐标上的平移；步骤五，根据线性剂量响应关系，求得待预测样本的辐射剂量值；通过已知照射剂量的牙釉质拟合得到的RIS强度x2的值与剂量值建立剂量响应关系表达式，进行剂量预测；剂量响应关系表达式为：y＝px2+q；式中，x2表示样本RIS部分与RIS基底相比的强度比值，y为样本照射剂量；根据样品种类不同，曲线斜率p和截距q也不同；所述步骤一将预测剂量样本的EPR谱图转换至g因子为横坐标的EPR谱图上前，需进行：获取1个或多个未受辐射的、1个100Gy照射后的、若干个已知照射剂量的牙釉质EPR谱图；将未辐照的牙釉质EPR谱图作为本底信号BGS基底，100Gy照射后的牙釉质EPR谱图作为辐射信号RIS基底。

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百度查询： 中国医学科学院放射医学研究所 四川大学 一种牙釉质辐射剂量的预测方法、系统、存储介质及终端