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申请/专利权人：无锡尚积半导体科技有限公司

摘要：本申请公开了一种初始优化镀膜装置及镀膜方法，初始优化镀膜装置包括作业腔、载台、靶材、遮板和第一遮挡组件，遮板能够隔开靶材和载台；在靶材通电的前30s利用遮板隔开靶材与载台，能够避免晶圆在点火阶段被误镀膜；待反应区域内的反应环境稳定，使得遮板离开作业腔，载台暴露在靶材下方，晶圆即可高效、准确地接受镀膜；初始优化镀膜装置还包括收容腔和遮板驱动组件，遮板驱动组件通过设置两组磁吸件，能够将收容腔外的驱动力传递至收容腔内，如此，既能够实现遮板的往返运动、又能够保护驱动结构；遮板驱动组件还通过设置四组相互配合导轨和滚轮提高了遮板运动的稳定性和准确性。

主权项：1.一种初始优化镀膜装置，其特征在于，包括：作业腔（11），用于为晶圆镀膜提供空间，所述作业腔（11）上设有第一进出口；载台（20），设于所述作业腔（11）内，用于承接晶圆；靶材（1），设于所述作业腔（11）内、并悬于所述载台（20）上方；遮板（31），能够通过所述第一进出口进入或离开所述作业腔（11），所述遮板（31）进入所述作业腔（11）后能够隔开所述靶材（1）与所述载台（20）；第一遮挡组件（40），用于封闭所述第一进出口；镀膜时，所述载台（20）接取待处理的晶圆，所述遮板（31）进入所述作业腔（11）、并隔开所述靶材（1）与所述载台（20），所述靶材（1）通电，等待点火阶段结束，所述遮板（31）离开所述作业腔（11），所述第一遮挡组件（40）封闭所述第一进出口；所述初始优化镀膜装置还包括：收容腔（12），设于所述作业腔（11）一侧、并能够连通所述第一进出口；遮板驱动组件，用于驱使所述遮板（31）往返于所述作业腔（11）和所述收容腔（12），所述遮板驱动组件包括：电机（51），设于所述收容腔（12）外；丝杆（52），与所述电机（51）相连、并沿第一水平方向朝向所述作业腔（11）延伸设置；第一磁吸件（53），通过丝母与所述丝杆（52）相连；第二磁吸件（54），设于所述收容腔（12）内、并与所述遮板（31）相连，所述第二磁吸件（54）与所述第一磁吸件（53）磁性相吸；两组第一导轨（55），两组所述第一导轨（55）沿第二水平方向间隔设置在所述收容腔（12）内，任一所述第一导轨（55）的导向面为平面、并沿所述第一水平方向延伸设置；两组第二导轨（56），两组所述第二导轨（56）亦沿所述第二水平方向间隔设置在所述收容腔（12）内，任一所述第二导轨（56）的导向面为斜面、并沿所述第一水平方向延伸设置，两组所述第二导轨（56）的导向面对称设置，任一组所述第二导轨（56）与一组所述第一导轨（55）沿竖直方向间隔设置；两组第一滚轮（57），两组所述第一滚轮（57）沿所述第二水平方向相对设置，任一所述第一滚轮（57）可转动地设置在所述第二磁吸件（54）上，任一所述第一导轨（55）上可滚动地设置有一组所述第一滚轮（57）；两组第二滚轮（58），两组所述第二滚轮（58）亦沿所述第二水平方向相对设置，任一所述第二滚轮（58）可转动地设置在所述第二磁吸件（54）上，任一所述第二导轨（56）上可滚动地设置有一组所述第二滚轮（58）；镀膜时，所述第一进出口开放，所述电机（51）启动、驱使所述丝杆（52）旋转，所述第一磁吸件（53）能够带动所述第二磁吸件（54）和所述遮板（31）沿所述第一水平方向、朝向所述作业腔（11）运动；所述第一滚轮（57）和所述第一导轨（55）配合、所述第二滚轮（58）和所述第二导轨（56）配合，能够限定所述第二磁吸件（54）和所述遮板（31）的运动方向；两组所述第二滚轮（58）配合、能够限制所述第二磁吸件（54）和所述遮板（31）在所述第二水平方向上位移或窜动；所述第一滚轮（57）和所述第二滚轮（58）配合、能够限制所述第二磁吸件（54）和所述遮板（31）在所述竖直方向上位移或窜动。

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