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申请/专利权人：因林光电科技(苏州)有限公司
摘要：本发明公开了一种分布式反馈激光器及其制备方法，分布式反馈激光器包括：激光器外延结构，激光器外延结构包括衬底以及位于衬底一侧的多层外延层，多层外延层包括中间外延层以及依次位于中间外延层远离衬底一侧的上光场限制层和上接触层；外延层的材料包括Alx1Iny1Ga1‑x1‑y1N，其中，0≤x1≤1、0≤y1≤1，0≤x1+y1≤1；位于上接触层远离衬底一侧的第一类型欧姆接触金属层；其中，上光场限制层、上接触层和第一类型欧姆接触金属层形成脊形结构；脊形结构沿m方向延伸，脊形结构中，上接触层和部分上光场限制层的侧面均为m面；位于衬底远离外延层一侧的第二类型欧姆接触金属层。本发明解决了干法刻蚀脊形侧壁的非辐射复合和漏电以及激射波长不稳定的技术问题。
主权项：1.一种分布式反馈激光器，其特征在于，包括：激光器外延结构，所述激光器外延结构包括衬底以及位于所述衬底一侧的多层外延层，多层所述外延层包括中间外延层以及依次位于所述中间外延层远离所述衬底一侧的上光场限制层和上接触层；所述外延层的材料包括Alx1Iny1Ga1-x1-y1N，其中，0≤x1≤1、0≤y1≤1，0≤x1+y1≤1；位于所述上接触层远离所述衬底一侧的第一类型欧姆接触金属层；其中，所述上光场限制层、所述上接触层和所述第一类型欧姆接触金属层形成脊形结构；所述脊形结构沿m方向延伸；所述脊形结构中，所述上接触层和部分所述上光场限制层的侧面均为m面；所述m方向与所述衬底所在平面平行；所述脊形结构包括多个沿所述m方向依次连接的子脊形结构；所述子脊形结构包括沿所述m方向依次连接的第一子脊形结构、第二子脊形结构和第三子脊形结构；所述第一子脊形结构为宽脊形区；沿a方向，所述第一子脊形结构的延伸宽度大于所述第二子脊形结构以及所述第三子脊形结构的延伸宽度；且沿所述m方向，所述第二子脊形结构在所述a方向上的延伸宽度逐渐减小，所述第三子脊形结构在所述a方向上的延伸宽度逐渐增大；所述a方向与所述衬底所在平面平行且与所述m方向相交；位于所述衬底远离所述外延层一侧的第二类型欧姆接触金属层。
全文数据：
权利要求：
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