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申请/专利权人：富士胶片株式会社
摘要：本发明的课题在于提供一种能够形成耐擦性优异的导电膜的导电体的制造方法。并且，本发明的课题在于提供一种电磁波屏蔽体的制造方法及导电体。本发明的导电体的制造方法包括：油墨准备工序，准备至少含有金属盐或金属络合物的第1油墨及至少含有金属盐或金属络合物的第2油墨；工序1，使用第1油墨在基材上形成第1涂膜之后，对第1涂膜实施选自由加热处理及光照射处理组成的组中的至少1个的第1固化处理，形成第1导电膜；及工序2，使用第2油墨在第1导电膜上形成第2涂膜之后，对第2涂膜实施选自由加热处理及光照射处理组成的组中的至少1个的第2固化处理，形成第2导电膜，第1涂膜及第2涂膜的厚度以及第1固化处理及第2固化处理的处理条件满足规定关系式。
主权项：1.一种导电体的制造方法，其包括：油墨准备工序，准备至少含有金属盐或金属络合物的第1油墨及至少含有金属盐或金属络合物的第2油墨；工序1，使用所述第1油墨在基材上形成第1涂膜之后，对所述第1涂膜实施选自由加热处理及光照射处理组成的组中的至少1个的第1固化处理，形成第1导电膜；及工序2，使用所述第2油墨在所述第1导电膜上形成第2涂膜之后，对所述第2涂膜实施选自由加热处理及光照射处理组成的组中的至少1个的第2固化处理，形成第2导电膜，所述导电体的制造方法满足式1及式2中的至少一个，式11.2≤{T2-23×t2L2}{T1-23×t1L1}式22.0≤E2L2E1L1式中，L1及L2分别表示所述第1涂膜及所述第2涂膜的厚度，单位为μm，T1及T2分别表示作为所述第1固化处理及所述第2固化处理实施的加热处理的加热温度，单位为℃，t1及t2分别表示作为所述第1固化处理及所述第2固化处理实施的加热处理的加热时间，单位为分钟，E1及E2分别表示作为所述第1固化处理及所述第2固化处理实施的光照射处理的曝光量，单位为Jcm2。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 富士胶片株式会社 导电体的制造方法、电磁波屏蔽体的制造方法、导电体
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