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申请/专利权人:ASML荷兰有限公司
摘要:一种带电粒子设备将带电粒子束沿着束路径朝向样品位置投射。该设备包括:用于操纵束的带电粒子透镜组件、和控制器。透镜组件包括板,每个板具有用于使束路径通过的孔径阵列。板位于沿着束路径的不同板位置处。控制器控制带电粒子设备,使得束的带电粒子在沿着束路径的不同板位置处具有不同能量值。透镜组件包括校正器,该校正器包括被配置为彼此独立地在相应的孔径处执行像差校正的单独的校正器。校正器与位于如下这样的板位置处的板相关联,在这样的板位置处,能量值最小、邻近板的电场的强度最大、和或能量值与邻近板的电场的强度之比最小。
主权项:1.一种带电粒子光学设备,用于沿着相应的束路径朝向样品位置投射多个带电粒子束,所述设备包括:带电粒子光学透镜组件,被配置为操纵所述束,所述透镜组件包括多个板,每个板具有用于使束路径通过的孔径的阵列,所述板位于沿着所述束路径的不同的板位置处;以及控制器,被配置为控制所述带电粒子光学设备,使得在使用中,所述束的带电粒子能够在沿着所述束路径的所述不同的板位置处具有不同的能量值;其中所述透镜组件包括校正器,所述校正器包括被配置为在相应的孔径处彼此独立地执行像差校正的多个单独的校正器,其中所述校正器与沿着所述束路径的、位于如下的这样的板位置处的所述板相关联,在这样的所述板位置处,所述能量值最小、和或邻近所述板的电场的强度最大、和或所述能量值与邻近所述板的电场的强度之比最小。
全文数据:
权利要求:
百度查询: ASML荷兰有限公司 带电粒子装置和方法
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