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一种流延成型陶瓷坯片闭腔填充结构制作方法 

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申请/专利权人:武汉科技大学

摘要:本发明公开了一种流延成型陶瓷坯片闭腔填充结构制作方法,其特征在于包括以下步骤:在闭腔对应位置的流延基片上用打孔机打出腔体,然后用有机载体填充腔体,在开有腔体的流延基片上下都依序叠合另外的流延基片形成叠合体,在腔体的其中一面打一个通气孔与腔体外相通,再经对位叠层、等静压及烧结形成所需要的结构即基片印刷体。本发明方法经过增加通气孔,使得叠压时透气性好,闭腔腔体形状保持性好,不变形,同时避免了叠压分切之后的开裂以及排胶烧结后的成品开裂。

主权项:1.一种流延成型陶瓷坯片闭腔填充结构制作方法,其特征在于包括以下步骤:在闭腔对应位置的流延基片上用打孔机打出腔体,然后用有机载体填充腔体,在开有腔体的流延基片上下都依序叠合另外的流延基片形成叠合体,在腔体的其中一面打一个通气孔与腔体外相通,再经对位叠层、等静压及烧结形成所需要的结构即基片印刷体。

全文数据:

权利要求:

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