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高密度集成电路引线框架的高压去溢料设备 

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申请/专利权人:东莞奥美特科技有限公司

摘要:本发明涉及引线框架去溢料设备技术领域,尤其涉及高密度集成电路引线框架的高压去溢料设备,第三支撑框架的旁侧设有支撑架,支撑架上依次接驳地装设有用于对浸泡软化后的引线框架进行清洗的清洗部件、用于对清洗完的引线框架进行高压喷水去溢料的高压除溢料槽以及用于对去完溢料的引线框架进行烘干的烘干槽,清洗部件的进料端与除液机构的出料端接驳;待引线框架经历水洗后,将其输送至高压除溢料槽内,通过高压喷水的方式将引线框架上下两表面的溢料进行精准地喷除,根据不同型号的引线框架以调节对应的喷水压力,在不损坏引线框架的情况下将溢料喷除;待引线框架上的溢料被喷除后,再将其输送至烘干槽内对表面残留的水渍进行烘干处理。

主权项:1.高密度集成电路引线框架的高压去溢料设备,其特征在于:包括第三支撑框架91和装设在第三支撑框架91上的储液槽81,储液槽81上转动地设有轴向水平布置且相互平行的第一转轴82和第二转轴83,第一转轴82上装设有第一链轮84,第二转轴83上装设有第二链轮85,第一链轮84和第二链轮85绕设有下半段置于储液槽81内的链条86;链条86的各内链板上和各外链板上均固定设有并排布置的安装条87,每相邻的两个安装条87为一组,链条86上的各组安装条87均装设有用于对引线框架进行支撑的支撑部件;在第三支撑框架91的旁侧设有第一支撑框架21,且在第一支撑框架21上装设有用于对待浸泡的引线框架进行间歇输送的第一输送部件6,储液槽81的边缘处设有用于将输送来的引线框架导入至与之对应的支撑部件上的进料部件818;在储液槽81的边缘处装设有用于将浸泡完成的引线框架从支撑部件上水平推出的推料气缸817,储液槽81远离推料气缸817一侧的边缘处装设有用于对浸泡完成的引线框架表面进行除液的除液机构824,除液机构824与推料气缸817相对设置;第三支撑框架91的旁侧设有支撑架1001,支撑架1001上依次接驳地装设有用于对浸泡软化后的引线框架进行清洗的清洗部件、用于对清洗完的引线框架进行高压喷水去溢料的高压除溢料槽1004以及用于对去完溢料的引线框架进行烘干的烘干槽1005,清洗部件的进料端与除液机构824的出料端接驳;第一支撑框架21上装设有用于输送弹夹101以便于将其内部放置的引线框架取出的出料输送模组3和用于将弹夹101内的引线框架逐个顶至第一输送部件6的顶片机构7;支撑架1001的旁侧设有第二支撑框架22,第二支撑框架22上装设有初始端与烘干槽1005的出料端接驳且用于对烘干后的引线框架进行输送的第二输送部件601,还装设有用于输送空的弹夹101以便于收取烘干后的引线框架的收料输送模组4。

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