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清洗托盘、基站和清洁系统 

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申请/专利权人:追觅创新科技(苏州)有限公司

摘要:本发明公开一种清洗托盘、基站和清洁系统,清洗托盘包括底座,底座上具有用于清洗清洁件的容置槽;清洗组件,清洗组件活动设置在容置槽的内部,清洗组件至少具有两个清洗部;传动组件,传动组件设置在两个清洗部之间,且与两个清洗部驱动连接,传动组件至少一部分与清洁件接触,清洁件为传动组件动作提供驱动力。本发明公开的清洗托盘、基站和清洁系统能够解决现有技术中的基站上的脏污存在清洁不彻底,需要手动进行清洁,导致清洁不方便、用户体验不佳的问题。

主权项:1.一种清洗托盘,用于清洗清洁件,其特征在于,所述清洗托盘包括:底座1210,所述底座1210上具有用于清洗所述清洁件的容置槽1211;清洗组件1220,所述清洗组件1220活动设置在所述容置槽1211的内部,所述清洗组件1220至少具有两个清洗部1221;传动组件1230,所述传动组件1230设置在两个所述清洗部1221之间,且与两个所述清洗部1221驱动连接,所述传动组件1230至少一部分与所述清洁件接触,所述清洁件为所述传动组件1230动作提供驱动力。

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权利要求:

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