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摘要：一种化学机械抛光系统包括：工作台，用于支撑具有抛光表面的抛光垫；以及垫冷却组件。垫冷却组件具有：在工作台上延伸的臂；由臂悬挂并耦合至冷却剂流体源的喷嘴，所述喷嘴定位成将冷却剂流体从源喷射到抛光垫的抛光表面上；以及在臂中的与喷嘴相邻的开口，以及在臂中的从开口延伸的通道，开口定位成足够靠近喷嘴，使得来自喷嘴的冷却剂流体流从开口夹带空气。
主权项：1.一种化学机械抛光系统，包括：工作台，所述工作台用于支撑具有抛光表面的抛光垫；以及垫冷却组件，所述垫冷却组件包括臂，所述臂在所述工作台之上延伸，其中所述臂包括支撑板，所述支撑板具有贯穿其中的通道，喷嘴，所述喷嘴由所述臂悬挂并耦合至液体冷却剂源，所述喷嘴定位在通过所述支撑板的相应通道上方，以将所述液体冷却剂和来自所述支撑板上方的夹带的空气通过所述支撑板中的所述通道喷射到所述抛光垫的所述抛光表面上。
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百度查询： 应用材料公司 用于化学机械抛光中温度控制的流体喷流期间的气体输送
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