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申请/专利权人：杭州中欣晶圆半导体股份有限公司
摘要：本发明公开了一种提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺，本发明涉及硅片清洗技术领域。该提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺，包括清洗池、连通在清洗池上的液位仪，所述清洗池的侧壁上通过安装板固定有电动推杆，所述电动推杆的顶部固定有支撑柱，所述支撑柱的底部设置有盛放网，所述盛放网的内部侧壁上固定有固定夹，所述支撑柱上设置有用于连接盛放网的连接组件以及驱动盛放网转动的动力组件，所述连接组件中包括：活动轴，固定在支撑柱的底部用于给连接组件中的其他零件提供支撑；使DHF清洗液与硅片之间充分接触，将硅片表面生成的自然氧化膜腐蚀掉，有效地去除氧化物，并保持硅片表面的平整度和光洁度，提高产品的质量。
主权项：1.一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，包括清洗池1、连通在清洗池1上的液位仪12，其特征在于：所述清洗池1的侧壁上通过安装板固定有电动推杆13，所述电动推杆13的顶部固定有支撑柱14，所述支撑柱14的底部设置有盛放网15，所述盛放网15的内部侧壁上固定有固定夹16，所述支撑柱14上设置有用于连接盛放网15的连接组件以及驱动盛放网15转动的动力组件，所述连接组件中包括：活动轴2，固定在支撑柱14的底部用于给连接组件中的其他零件提供支撑，所述活动轴2内滑动穿设有固定座21；连接杆22，固定在固定座21的底部用于给盛放网15提供支撑力，所述连接杆22的一端固定在盛放网15的顶部。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 一种提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺
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