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基板处理装置及监视方法 

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申请/专利权人:株式会社斯库林集团

摘要:提供一种可以高精度对监视对象的状态进行监视的技术。基板处理装置具备腔室10、基板保持部20、相机70及控制部9。基板保持部20在腔室10内保持基板W。相机70拍摄腔室10内的包含监视对象物的拍摄区域,生成拍摄图像数据。控制部9确定拍摄区域内的环境状态,在环境状态为第1环境状态时,以与第1环境状态对应的第1判定过程,基于拍摄图像数据对监视对象物的状态进行监视,在环境状态为与第1环境状态不同的第2环境状态时,以与第2环境状态对应且与第1判定过程不同的第2判定过程,基于拍摄图像数据对监视对象物的该状态进行监视。

主权项:1.一种基板处理装置,其中,具备:腔室;基板保持部,其在上述腔室内保持基板;相机,其拍摄上述腔室内的包含监视对象物的拍摄区域,生成拍摄图像数据;及控制部,其确定上述拍摄区域内的环境状态,在上述环境状态为第1环境状态时,以与上述第1环境状态对应的第1判定过程,基于上述拍摄图像数据监视上述监视对象物的状态,在上述环境状态为与上述第1环境状态不同的第2环境状态时,以与上述第2环境状态对应且与上述第1判定过程不同的第2判定过程,基于上述拍摄图像数据监视上述监视对象物的上述状态。

全文数据:

权利要求:

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