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申请/专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所
摘要：本发明公开一种用于MOCVD设备的气体供应系统及气体供应控制方法，系统中，真空单元分别与尾气处理装置、反应室和加压罐连接，金属有机物源气体供应单元和加压气体气源均与加压罐连接，金属有机物源气体供应单元提供金属有机物形成的原料气体X，加压气体气源提供加压气体P，原料气体X与加压气体P在加压罐中形成混合气体M；反应气体气源、稀释气体气源和加压罐均与反应室连接，实现混合气体M、反应气体Y和稀释气体Z输送至反应室内；加压罐与反应室的连接管路上设有旁路，旁路与尾气处理装置连接，实现废气排放。本发明具有结构紧凑、操作简单、控制精度高等特点，解决了反应物压力精确控制、MO源的气化以及反应气氛精准保障等问题。
主权项：1.一种用于MOCVD设备的气体供应系统，其特征在于，包括：尾气处理装置100、反应气体气源120、稀释气体气源122、真空单元210、金属有机物源气体供应单元212、加压罐214和加压气体气源214b；所述真空单元210分别与尾气处理装置100、反应室112和加压罐214连接，以实现系统抽真空；所述金属有机物源气体供应单元212和加压气体气源214b分别通过气体管道与加压罐214连接，所述金属有机物源气体供应单元212用于提供金属有机物形成的原料气体X，所述加压气体气源214b用于提供加压气体P，原料气体X与加压气体P在加压罐214中混合形成混合气体M；所述反应气体气源120、稀释气体气源122和加压罐214分别通过气体管道与反应室112内侧的进气装置116连接，以实现混合气体M、反应气体Y和稀释气体Z输送至反应室112内；所述加压罐214与反应室112的连接管路上设有旁路管路152，所述旁路管路152与尾气处理装置100连接，以实现反应室112中的废气排放至尾气处理装置100中。
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百度查询： 中国电子科技集团公司第四十八研究所 一种用于MOCVD设备的气体供应系统及气体供应控制方法
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