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申请/专利权人：东北大学
摘要：本发明属于冶金技术领域，提供了采用CVD气相沉积连续双面渗硅制备高硅钢带的工业化生产系统，包括从低硅硅钢薄板被开卷机送入生产系统开始至制得高硅硅钢薄板结束止，采用化学气相沉积连续双面沉积工艺、在低硅硅钢的上、下表面同时沉积富硅层并扩散使之成为高硅钢梯度高硅钢薄板的工业化生产系统；通过在CVD渗硅室中对称放置多个上下喷嘴或者是长短交叉喷嘴，连续联动装置的带动下，实现了连续沉积硅材料的目的，并且实现资源的回收利用，因此不仅能耗低，生产效率高；本发明提出的连续双面共沉积制硅材料的工业化生产系统解决了轧制法、快速凝固法、粉末冶金法制备高硅钢的缺陷，以及填补了国内CVD法制备高硅钢梯度高硅钢的技术空白。
主权项：1.采用CVD气相沉积连续双面渗硅制备高硅钢带的工业化生产系统，其特征在于：从低硅硅钢薄板被开卷机送入生产系统开始至制得高硅硅钢薄板结束止，整个生产工艺的设备顺序为：开卷机、夹送辊、入口剪、焊机、清洗室、烘干室、入口活套、预热室、CVD渗硅室、扩散室、冷却室、出口活套、在线磁性能检测仪、涂层室、出口剪、卷取机；开卷机用于对生产的原始冷轧卷开卷；预热室用于对低硅钢薄板进行迅速加热，使得低硅钢薄板迅速达到1000℃的温度，其提供的加热温度为800℃～1000℃，有效的加热长度为2～13m；CVD渗硅室用于对经过预热处理的低硅钢薄板的上、下表面同时连续化学气相沉积硅材料，总体长度为10～30m；扩散室用于对渗硅后的薄板在1150-1200℃进行高温退火处理，生成扩散后的具有梯度或者均匀的高硅钢薄带，其提供的热处理温度为1000～1200℃，有效加热长度为30～200m；冷却室用于扩散完成后的板的冷却，温度控制为300℃～400℃，制冷区的长度为3～12m，进行快速冷却，最大限度的避免生成B2和DO3相；在线磁性能检测仪用于扩散后薄带的磁性能检测；涂层室用于对扩散完成后的薄带涂层，其涂层室提供的温度为300℃～400℃；卷取机用于对涂层后的成品板进行卷装。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东北大学 采用CVD气相沉积连续双面渗硅制备高硅钢带的工业化生产系统
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