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申请/专利权人:江苏凯威特斯半导体科技有限公司
摘要:本发明公开了一种关于CVDShowerHead部件的清洗方法,属于半导体零部件清洗技术领域。该清洗方法包括:吹扫;异丙醇溶液中浸泡;清洗液浸泡;KOH水溶液浸泡;酸液浸泡;超声处理;烘干等操作。该方法可以有效去除产品表面及孔洞内部的污染物,并且可以有效控制产品表面金属离子浓度,并且有效保持产品的紧密度,清洗过程中对产品母材造成的损伤很小,还可以及时检测出产品状态,使产品可循环使用次数增多。
主权项:1.一种CVDShowerHead超高清洗工艺,其特征在于,包括如下步骤:步骤一:使用气流对CVDShowerHead表面及孔洞内部进行吹扫;步骤二:将步骤一吹扫后的部件放入异丙醇溶液中浸泡,再对部件表面、侧面台阶及孔洞周围进行擦拭;步骤三:对步骤二擦拭后的部件表面及孔洞进行冲洗;步骤四:将步骤三冲洗后的部件浸泡到清洗液,然后冲洗;所述清洗液,按质量分数计算,由以下组分组成:柠檬酸钠1.5份,二乙二醇乙醚3.0份,异己二醇2.0份,非离子表面活性剂4.5份,阳离子表面活性剂1.5份,水87.5份;所述非离子表面活性剂,按质量分数计算,由以下组分组成:脂肪醇聚氧乙烯醚5份,壬基酚聚氧乙烯醚10份,水85份;所述阳离子表面活性剂为,按质量分数计算,由以下组分组成:十二烷基二甲基苄基氯化铵5.0份,十六烷基三甲基氯化铵4.5份,聚季铵盐-115.0份,水85.5份;步骤五:将经步骤四处理后的部件浸泡到KOH水溶液中,浸泡完成后进行清洗;所述KOH水溶液的质量浓度为5%;步骤六:将经步骤五处理后的部件浸泡酸液中,浸泡完成后进行清洗;步骤七:将经步骤六处理后的部件浸泡到酸蚀液中,浸泡完成后进行清洗;步骤八:将经步骤七处理后的部件吹干,用雪花干冰清洗部件表面孔径;步骤九:将经步骤八处理后的部件放置于溢流装置中进行溢流,之后吹干;步骤十:将经步骤九处理后的部件进行超声处理,之后吹干;步骤十一:将经步骤十处理后的部件进行烘干,冷却,得到清洗干净的CVDShowerHead。
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