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申请/专利权人：普雷茨特光电有限公司
摘要：一种用于测量晶片10的装置14包括光学相干断层扫描仪22和扫描装置26，光学相干断层扫描仪产生测量光束24并通过光学系统38将测量光束对准晶片10，扫描装置使测量光束24偏转到两个空间方向并具有恰好两个被安装成可各自围绕恰好一个轴30、34旋转的扫描镜28、32。控制单元36对扫描装置26进行控制，以使测量光束24依次在多个测量点上扫描晶片10的表面。评估单元57根据光学相干断层扫描仪22所提供的干涉信号计算距离值和或厚度值。其中，碰撞防护装置64限制两个扫描镜28、32中至少一个扫描镜的旋转角度。
主权项：1.一种用于测量晶片10的装置14，其包括：光学相干断层扫描仪22，其被设计为产生测量光束24，并通过光学系统38将所述测量光束对准所述晶片10，扫描装置26，其具有被安装成能够各自围绕恰好一个轴30、34旋转的两个扫描镜28、32，并被设计为使所述测量光束24偏转到两个空间方向，控制单元36，其被设计为对所述扫描装置26进行如此控制，以使得所述测量光束24依次在多个测量点上扫描所述晶片10的表面，以及评估单元57，其被设计为根据所述光学相干断层扫描仪22所提供的干涉信号计算距离值和或厚度值，其中，所述两个扫描镜28、32中的至少一个扫描镜被分配了碰撞防护装置64，所述碰撞防护装置被设计为限制所述至少一个扫描镜28、32的旋转角度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 普雷茨特光电有限公司 用于测量晶片的装置和方法
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