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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供一种基片处理系统和处理流体供给方法。本发明的一方式的基片处理系统中的处理流体供给装置包括：循环通路；气体供给通路；设置在循环通路中，对气体状态的处理流体进行冷却以生成液体状态的处理流体的冷却部；设置在循环通路中的冷却部的下游侧的泵；与循环通路中的泵的下游侧连接，使液体状态的处理流体从分支部分支的分支通路；设置在分支部的下游侧，对液体状态的处理流体进行加热以生成超临界状态的处理流体的加热部；设置在循环通路中的加热部的下游侧且气体供给通路的上游侧，对超临界状态的处理流体进行减压以生成气体状态的处理流体的调压部。由此，能够在将液体状态的处理流体由泵送出时降低由上述泵产生的脉动的影响。
主权项：1.一种基片处理系统，其特征在于，包括：利用处理流体来对基片进行处理的基片处理装置；和对所述基片处理装置供给所述处理流体的处理流体供给装置，所述处理流体供给装置包括：使所述处理流体循环的循环通路；将气体状态的所述处理流体供给到所述循环通路的气体供给通路；冷却部，其设置在所述循环通路中，对气体状态的所述处理流体进行冷却以生成液体状态的所述处理流体；泵，其设置在所述循环通路中的所述冷却部的下游侧；分支通路，其与所述循环通路中的所述泵的下游侧连接，使液体状态的所述处理流体从分支部分支；加热部，其设置在所述分支部的下游侧，对液体状态的所述处理流体进行加热以生成超临界状态的所述处理流体；调压部，其设置在所述循环通路中的所述加热部的下游侧且所述循环通路与所述气体供给通路的连接部的上游侧，对超临界状态的所述处理流体进行减压以生成气体状态的所述处理流体；阀，其设置在所述循环通路中的所述调压部的下游侧且所述连接部的上游侧，切换所述循环通路中的所述处理流体的流动的开启和关闭。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理系统和处理流体供给方法
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