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申请/专利权人：华芯程(杭州)科技有限公司
摘要：本申请提供一种曲线掩模版优化方法、装置、终端、介质及程序产品，该方法包括：确定需优化的经OPC修正后的曲线掩模版；在所述曲线掩模版的图案边缘上选取多个评估点，并划分为多个评估点组合；对每个评估点组合进行基于圆周拟合的优化判断，并对判断为需要进行优化的评估点组合进行最优位置调整，以得到优化曲线掩膜版。本申请通过评估点的选择和曲率半径的判断，高效地筛选出需要优化的图形，并通过对评估点位置进行迭代优化，快速地达到了凸角图形优化的目的，得到OPC质量更高的掩模版。
主权项：1.一种曲线掩模版优化方法，其特征在于，包括：确定需优化的经OPC修正后的曲线掩模版；在所述曲线掩模版的图案边缘上选取多个评估点，并划分为多个评估点组合；对每个评估点组合进行基于圆周拟合的优化判断，并对判断为需要进行优化的评估点组合进行最优位置调整，以得到优化曲线掩膜版。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华芯程(杭州)科技有限公司 曲线掩模版优化方法、装置、终端、介质及程序产品
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