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申请/专利权人：科思创德国股份有限公司

摘要：本发明涉及光聚合物组合物，其包含a基质聚合物，b书写单体，c至少一种光引发剂体系，d任选地，至少一种非光聚合组分，e任选地，催化剂、自由基稳定剂、溶剂、添加剂和其它助剂和或添加剂，其中所述至少一种光引发剂体系c由至少一种染料和至少一种共引发剂组成，其中所述染料的至少一种具有根据式II的结构，并且其中所述至少一种共引发剂具有在乙腈中相对于饱和甘汞电极SCE的1.01V至1.31V的计算氧化电位A，该计算氧化电位根据以下公式1通过在溶剂乙腈中根据PCM方法进行溶剂场校正的情况下在进行几何优化之后对三芳基烷基硼酸盐的基态和氧化态在298K下的吉布斯能量进行量子力学计算确定，该几何优化由通过AMI力场的构象异构体能量最小化和然后基于先前确定的分子几何坐标进行从头构象异构体能量计算构成

主权项：1.光聚合物组合物，其包含a基质聚合物，b书写单体，c至少一种光引发剂体系，d任选地，至少一种非光聚合组分，e任选地，催化剂、自由基稳定剂、溶剂、添加剂和其它助剂和或添加剂，其中所述至少一种光引发剂体系c由至少一种染料和至少一种共引发剂组成，其特征在于所述染料的至少一种具有根据式II的结构 其中R205代表氢、卤素、C1至C4烷基、C1至C4烷氧基或NR210R211，R206代表氢、卤素、C1至C4烷基、C1至C4烷氧基或NR212R213，R201至R204和R210至R213各自彼此独立地代表氢、C1至C16烷基、C4至C7环烷基、C7至C16芳烷基、C6至C10芳基或杂环基，NR201R202、NR203R204、NR210R211和NR212R213彼此独立地代表通过N连接的五元或六元饱和环，其可另外含有N或O和或可被非离子基团取代，R207至R209彼此独立地代表氢、C1至C16烷基、C4至C7环烷基、C7至C16芳烷基、C6至C10芳基、卤素或氰基，所述两个任选的桥连基团X1和X2彼此独立地代表SiR214R215、CR216R217或O，并且R214至R217彼此独立地代表氢或C1至C4烷基，并且An–代表选自卤素离子、高氯酸根、四氟硼酸根、六氟磷酸根、六氟锑酸根、四芳基硼酸根、三芳基烷基硼酸根、硝酸根、氰根、甲苯磺酸根、三氟甲基磺酸根、双三氟甲基磺酰亚氨根、叠氮根、甲基磺酸根、磷酸根、磷酸氢根、磷酸二氢根、硫酸根、硫酸氢根、任意取代的羧酸根、任意取代的有机单磺酸根或二磺酸根、或任意取代的有机单羧酸根或二羧酸根的阴离子，并且所述至少一种共引发剂具有在乙腈中相对于饱和甘汞电极SCE的1.01V至1.31V的计算氧化电位该计算氧化电位根据以下公式1通过在溶剂乙腈中根据PCM方法进行溶剂场校正的情况下在进行几何优化之后对三芳基烷基硼酸盐的基态和氧化态在298K下的吉布斯能量进行量子力学计算确定，该几何优化由通过AM1力场的构象异构体能量最小化和然后基于先前确定的分子几何坐标进行从头构象异构体能量计算构成

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百度查询： 科思创德国股份有限公司 三芳基烷基硼酸盐作为NIR光聚合物组合物中的共引发剂