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申请/专利权人：全球标准技术有限公司
摘要：本发明涉及一种MIMO系统，其包括歧管，所述歧管能够控制包括在半导体或显示器工序中产生的废气的流体的温度及流动，所述各个歧管可以包括一个供应管、一个旁通管、两个排出管，一个供应管，或包括0个旁通管、两个排出管。
主权项：1.一种用于连续地供应包括废气的流体的装置，包括：两个以上的歧管，其用于控制包括在包括半导体及显示器工序的工业工序中产生的废气的流体的流动；以及两个以上的流体处理器，其与所述歧管连接，并且所述用于连续地供应包括废气的流体的装置具有控制系统，所述控制系统在通过所述两个以上的歧管中的一个歧管的一个以上的排出管向所述两个以上的流体处理器中的一个以上供应包括所述废气的流体的管道被堵塞时，使用所述两个以上的歧管中的所述一个歧管的未被堵塞的另外的排出管，或使用所述两个以上的歧管中未使用的歧管的一个以上的排出管向所述两个以上的流体处理器中的所述一个以上或所述两个以上的流体处理器中不同于所述一个以上的另外的流体处理器供应包括所述废气的流体，所述用于连续地供应包括废气的流体的装置的特征在于，所述歧管包括一个以上的供应管和两个以上的排出管，所述歧管的所述两个以上的排出管均由通过气动或电来工作的驱动器控制，所述驱动器通过非比例控制的开关方式控制，所述歧管在内部具有能够加热流体的机构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 全球标准技术有限公司 用于控制包括废气的流体的流动的歧管
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