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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：提供了一种金属氧化物光致抗蚀剂组合物，其包括被选择用于清除电子动能为20eV或更低的电子的电子清除剂颗粒。还提供了一种改善金属氧化物光致抗蚀剂性能的方法，该方法包括提供一种或多种电子清除剂，其被选择用于清除金属氧化物光致抗蚀剂中电子动能为20eV或更低的电子。本发明还提供了这种组合物或方法在光刻设备或工艺中的用途。
主权项：1.一种金属氧化物光致抗蚀剂组合物，包括被选择用于清除电子动能为20eV或更低的电子的电子清除剂颗粒。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 抗蚀剂组合物
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