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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：在此提供了用于优化特征填充工艺的系统与方法。该特征填充优化系统与方法可用于从小量的图案化晶片测试来优化特征填充。该系统与方法可用于优化增强的特征填充工艺，其中该增强的特征填充工艺包括有包含抑制和或蚀刻操作与沉积操作的操作。来自试验的结果可用于校准特征尺度行为模型。一旦被校准了，参数空间可迭代地被探索，以优化该工艺。
主权项：1.一种特征填充优化计算系统，其包含：一或更多个处理器；程序指令，其用于在所述一或更多个处理器上执行，所述程序指令包含用于以下操作的指令：从被执行在成组的样品特征上的一或更多个特征填充操作来获得计量结果；使用所述计量结果来校准所述一或更多个特征填充操作中的至少一个的行为模型；以及在改变一或更多个行为参数的同时，迭代地应用被校准的所述模型，以优化所述行为参数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 使用特征尺度建模的填充工艺优化
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