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申请/专利权人:AGC株式会社;翼真空理研株式会社
摘要:本发明涉及一种钇质保护膜,其X射线衍射图谱中的Y5O4F7的峰强度比为60%以上,气孔率小于1.5体积%,维氏硬度为500MPa以上。
主权项:1.一种钇质保护膜,X射线衍射图谱中的Y5O4F7的峰强度比为80%以上,气孔率小于1.5体积%,维氏硬度为500MPa以上。
全文数据:
权利要求:
百度查询: AGC株式会社 翼真空理研株式会社 钇质保护膜及其制造方法和构件
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