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申请/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
摘要：一种电弧检测系统检测半导体处理洁净室环境内的电弧。电弧检测系统包含传声器阵列，所述传声器阵列安置在洁净室环境内。传声器接收洁净室环境内的声波，且基于声波产生音频信号。电弧系统包含控制系统，所述控制系统从传声器接收音频信号。控制系统分析音频信号且基于音频信号检测洁净室环境内的电弧。控制系统可响应于检测电弧而实时调整半导体工艺。
主权项：1.一种半导体工艺期间电弧的音频识别方法，包括：对安置在半导体处理洁净室环境中的半导体晶片上执行半导体工艺；用安置在所述半导体处理洁净室环境中的传声器阵列从声波产生音频信号，其中所述传声器阵列包括多组传声器，其中每组传声器包括：第一传声器，对第一频率范围中的声音敏感，所述第一频率范围包括次声波；第二传声器，对不同于所述第一频率范围的第二频率范围内的声音敏感，所述第二频率范围包括可听频率；以及第三传声器，对不同于所述第一频率范围和所述第二频率范围的第三频率范围内的声音敏感，且所述第三频率范围包括超声波频率；用多个第一滤波器过滤所述音频信号，每个第一滤波器耦合到所述多组传声器的相应组；用控制系统处理所述音频信号，其中处理所述音频信号包括用至少一个第二滤波器从所述音频信号过滤一个或多个频带；基于所述音频信号，用所述控制系统检测所述半导体处理环境内的电弧；用所述控制系统确定所述电弧是否对所述半导体晶片造成危险；如果所述控制系统确定所述电弧危险：响应于检测所述电弧，用所述控制系统调整所述半导体工艺的参数；以及在检测所述电弧之后，以调整的参数继续所述半导体工艺而不终止所述半导体工艺；以及如果所述控制系统确定所述电弧不危险，则继续执行所述半导体工艺而不调整所述半导体工艺的参数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 半导体工艺期间电弧的音频识别方法和系统
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