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一种拼接型量子点膜及其制备方法 

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申请/专利权人:知光量芯(苏州)半导体有限公司

摘要:本发明提供了一种拼接型量子点膜及其制备方法,所述制备方法先准备至少两块单层量子点膜,再按照需求将其在垂直方向和或水平方向上拼接放置,利用导电胶固化实现接触界面的连接,得到拼接型量子点膜。本发明所述制备方法可以根据客户需要,将至少两块单层量子点膜裁剪成所需形状和尺寸,再按照客户需要将同量子点同厚度、同量子点不同厚度、不同量子点同厚度或不同量子点不同厚度的单层量子点膜,进行任意组合地拼接放置,借助导电胶固化实现接触界面的连接,得到可以组合定制的拼接型量子点膜,可广泛应用于平面及曲面光电探测器件、发光器件等。

主权项:1.一种拼接型量子点膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:1准备至少两块单层量子点膜,所述单层量子点膜包括导电聚合物以及均匀分布在所述导电聚合物中的量子点;2将步骤1的至少两块所述单层量子点膜在垂直方向和或水平方向上拼接放置,利用导电胶固化实现接触界面的连接,得到拼接型量子点膜。

全文数据:

权利要求:

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