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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：披露了一种执行光刻性能验证测试的方法。所述方法包括：获得一个或更多个曝光布局，每个曝光布局与多个曝光场在衬底上的曝光相关；针对所述一个或更多个曝光布局中的每一个，在包括光致抗蚀剂的衬底上执行伪曝光，所述伪曝光不使用曝光照射、或使用具有低于所述光致抗蚀剂的曝光阈值的曝光能量的曝光照射；监测每次伪曝光的一个或更多个曝光参数以获得曝光参数数据；以及根据对应于每次伪曝光的曝光参数数据来评估每次伪曝光和或其对应的曝光布局的光刻性能。
主权项：1.一种执行光刻性能验证测试的方法，所述方法包括：获得描述多个曝光布局的曝光布局数据，每个曝光布局与多个曝光场在衬底上的曝光相关；针对所述一个或更多个曝光布局中的每一个，在包括光致抗蚀剂的衬底上执行一次或更多次伪曝光，所述伪曝光不使用曝光照射、或使用具有低于所述光致抗蚀剂的曝光阈值的曝光能量的曝光照射；监测每次伪曝光的一个或更多个曝光参数以获得曝光参数数据；以及通过根据对应于每次伪曝光的所述曝光参数数据来评估每次伪曝光和或其对应的曝光布局的光刻性能，识别具有最佳性能和或最差性能的曝光布局和或曝光参数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 光刻性能验证及相关联的设备
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