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申请/专利权人：万华化学集团电子材料有限公司

摘要：本发明公开了一种高精度硅片抛光组合物及其应用，所述高精度硅片抛光组合物以二氧化硅水溶胶及有机碱为主要抛光组分，额外添加有酚类化合物、芳基含氮化合物。本发明通过在硅片抛光组合物中额外加入酚类化合物、芳基含氮化合物，可以在硅片表面形成双层保护膜，从而降低硅片在CMP过程中的刻蚀速率，进一步提高硅晶圆的表面质量。

主权项：1.一种高精度硅片抛光组合物，其特征在于，所述硅片抛光组合物包括以下重量百分含量的组分：二氧化硅水溶胶1%-80%；有机碱0.5%-20%；酚类化合物0.005%-2%；芳基含氮化合物0.005%-2%；pH调节剂0.1%-5%；余量为去离子水；所述芳基含氮化合物选自苯并三氮唑、苯并咪唑、甲基苯并三氮唑、5-苯基四氮唑、吲哚、喹啉、苯胺、苯甲胺、苯乙胺、苯丙胺、4-氨基联苯、联苯胺、4-氯邻甲苯胺、2-萘胺、邻氨基偶氮甲苯、5-硝基-邻甲苯胺、4-氯苯胺、4-二氨基苯甲醚、3,3´-二氯联苯胺、3,3´-二甲基联苯胺、2-甲基苯胺、2,4-二氨基甲苯、2,4,5-三甲基苯胺、2-甲氧基苯胺、4-氨基偶氮苯、2,4-二甲基苯胺、2,6-二甲基苯胺中的至少任一种；所述酚类化合物选自苯酚、β-萘酚、对苯二酚、邻苯二酚、均苯三酚、连苯三酚、间苯二酚、间硝基苯酚、2-溴-1-萘酚、2，4，6-三硝基苯酚、邻硝基苯酚、2，4-二氯苯酚、2，4，6三溴苯酚、邻甲苯酚、间甲苯酚、对甲苯酚、丁香酚、愈创木酚、漆汁酚中的至少任一种；所述有机碱选自甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、乙二胺、单乙醇胺、N-β-胺基乙基乙醇胺、六亚甲基二胺、二亚乙基三胺、三亚己基四胺、1-2-胺基乙基哌嗪、N-甲基哌嗪、哌嗪、咪唑、1甲基咪唑、N甲基咪唑、四甲基胍、碳酸胍、盐酸胍、四甲基氢氧化铵、四甲基氯化铵、四甲基溴化铵、四甲基氟化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四乙基氯化铵、四乙基溴化铵、四乙基氟化铵中的至少任一种；所述pH值调节剂选自氯化氢、硝酸、硫酸、磷酸、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、1,2,4-三氮唑、甲酸、乙酸、丙酸、衣康酸、琥珀酸、酒石酸、柠檬酸、马来酸、乙醇酸、丙二酸、草酸、丁二酸、苹果酸、葡萄糖酸、丙氨酸、甘氨酸、乳酸、三氟乙酸、乙二胺四乙酸、氮川三乙酸、二乙烯三胺五乙酸、三乙烯二胺、丙二胺四乙酸、羟乙基乙二胺、羟乙基乙二胺三乙酸、焦磷酸、2-氨基乙基膦酸、1-羟基乙叉1,1-二膦酸、氨基三亚甲基膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、乙烷-1,1-二膦酸、乙烷-1,1,2-三膦酸、甲烷羟基膦酸、1-膦酰基丁烷-2,3,4-三羧酸或其盐类中的至少任一种；所述pH调节剂将硅片抛光组合物的pH值调节至9.0-12.0。

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