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一种用于中子散射测试的光电催化反应池及其应用 

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申请/专利权人:北京大学深圳研究生院

摘要:本申请公开了一种用于中子散射测试的光电催化反应池及其应用。本申请光电催化反应池包括反应池主体,其内部设有相对封闭的电解液容纳腔和位于容纳腔下方的气体室,两者通过透气疏水薄膜分隔开;电解液容纳腔侧壁上开设电极槽通孔;电解液容纳腔侧壁上与伸入的工作电极对应的侧壁处开设光纤窗口;反应池主体顶部开设与气体室连通的气体入口,侧壁开设与气体室连通的气体出口;反应池主体的顶部于电解液容纳腔正上方位置具有凹槽,作为中子出入射路径。本申请光电催化反应池,通过顶部的凹槽设计,减薄中子路径区域,提高中子透过率,实现更准确、有效的中子散射测试,还可进行掠入射和反射式测试,对光电催化技术研究和应用具有重要推动作用。

主权项:1.一种用于中子散射测试的光电催化反应池,其特征在于:包括反应池主体1,反应池主体1的内部设计有相对封闭的电解液容纳腔和位于电解液容纳腔下方的气体室;所述电解液容纳腔和气体室通过透气疏水的薄膜分隔开;所述电解液容纳腔的侧壁上开设有电极槽通孔用于使电极伸入电解液容纳腔内;所述电极包括工作电极和对电极,或者还包括参比电极;所述电解液容纳腔的侧壁上与伸入电解液容纳腔的工作电极对应的侧壁处开设有光纤窗口4,用于光源照射;所述反应池主体1的顶部开设有与气体室连通的气体入口31,反应池主体1的侧壁开设有与气体室连通的气体出口32;所述反应池主体1的顶部位于电解液容纳腔正上方的位置具有凹槽5,凹槽处的壁体比其他位置的壁体薄,作为中子出入射路径。

全文数据:

权利要求:

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