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基于片上超表面的角度复用方法及角度复用AR显示方法 

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申请/专利权人:武汉大学

摘要:本发明公开一种基于片上超表面的角度复用方法及角度复用AR显示方法,以实现不同面内照射角度的多通道增强现实全息显示。本发明根据角度相关相位计算方法,可计算出超表面在不同入射角度下的相位分布,并通过优化创建新的角度通道。通过研究迂回相位调制的角度依赖性并利用优化算法来扩展角度多路复用的容量,成功实现了多达六个角度的不同全息图编码,超越了典型的单传播角度或仅正交传播角度的片上全息术。此外,由于片上光学传播方案,投射的AR全息图消除了对观察者造成的零阶衍射背景干扰。所提出的片上照明角度复用的新自由度可为提高光复用能力开辟道路,并在光信息加密和存储、下一代可穿戴AR设备和多功能集成电路方面具有巨大的应用潜力。

主权项:1.一种基于片上超表面的角度复用方法,其特征在于,包括:S1:在光波导层的上方排布由硅纳米砖结构组成的二维阵列,形成片上超表面;S2:以平行于光波导层的工作面的两条边的方向分别设为x轴和y轴建立xoy坐标系,所述硅纳米砖均为正方形结构且所有硅纳米砖的尺寸均相同;S3:基于迂回相位原理,得到从x和y方向入射的导波在每个硅纳米砖中受到的相位调制,在导波以与y方向呈角度θ入射时,以每个硅纳米砖相对于零相位面的总位移计算其对导波的相位调制;S4:以每个单元结构建立与步骤S2方向相同的xoy坐标系,通过步骤S3的计算方法对硅纳米砖阵列进行遍历,得到整个硅纳米砖阵列的位移矩阵,根据位移与相位分布的关系,计算在导波以角度θ入射时整个阵列的相位分布;S5:结合步骤S3和S4,设计每个硅纳米砖在周期内相距x轴和y轴的位移和以及导波入射角度θ,以独立地操纵导波在不同角度入射下散射光波的相位,实现角度复用。

全文数据:

权利要求:

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