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申请/专利权人：悟劳茂材料公司
摘要：本发明涉及一种框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。根据本发明的框架一体型掩模，其由多个掩模100与用于支撑掩模100的框架200一体形成，其特征在于，框架200具有：边缘框架部210，其包括中空区域R；以及掩模单元片材部220，其具有多个掩模单元区域CR且连接于边缘框架部210，各掩模100连接于掩模单元片材部220的上部。
主权项：1.一种框架一体型掩模，其由多个掩模与用于支撑掩模的框架一体形成，其中，框架包括：边缘框架部，其包括中空区域；以及掩模单元片材部，其沿着第一方向和垂直于第一方向的第二方向中至少一个方向具有多个掩模单元区域，并连接于边缘框架部，掩模单元片材部包括：边缘片材部；至少一个第一栅格片材部，其在第一方向上延伸形成且两端连接于边缘片材部；以及至少一个第二栅格片材部，其在垂直于第一方向的第二方向上延伸形成并与第一栅格片材部交叉，且两端连接于边缘片材部，各掩模连接于掩模单元片材部的上部，掩模、掩模单元片材部以及边缘框架部的材质为因瓦合金、超因瓦合金、镍、镍钴中任意一种，且掩模、掩模单元片材部以及边缘框架部使用相同的材质，掩模单元片材部与边缘框架部通过焊接时生成的相同材质的焊接媒介而连接成一体，掩模和掩模单元片材部通过焊接时生成的相同材质的焊接媒介而连接成一体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 悟劳茂材料公司 框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法
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