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一种施肥均匀的施肥装置 

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申请/专利权人:胡英

摘要:本实用新型公开了一种施肥均匀的施肥装置,涉及施肥设备技术领域,包括箱体,所述箱体的上端内部开设有料槽,且箱体的下端内部开设有与料槽底部连通的连通槽,并且箱体的底部设置有与连通槽底部连通的出料口,所述连通槽的内部设置有下料辊,所述下料辊的中心处固定设置有转轴,所述箱体的一侧外壁固定安装有电机,所述电机的输出端与转轴的一端固定连接,所述下料辊的内部设置有用以施肥的下料机构,本实用新型在下料时,可进行定量下料,并且通过转动双向丝杆,调节下料空腔的储料量进行定量施肥,且操作方便,实用性强。

主权项:1.一种施肥均匀的施肥装置,包括箱体(1),其特征在于:所述箱体(1)的上端内部开设有料槽(2),且箱体(1)的下端内部开设有与料槽(2)底部连通的连通槽(3),并且箱体(1)的底部设置有与连通槽(3)底部连通的出料口(4),所述连通槽(3)的内部设置有下料辊(31),所述下料辊(31)的中心处固定设置有转轴(32),所述箱体(1)的一侧外壁固定安装有电机(33),所述电机(33)的输出端与转轴(32)的一端固定连接,所述下料辊(31)的内部设置有用以施肥的下料机构,所述下料机构包括有开设在下料辊(31)外壁的下料空腔(34),所述下料空腔(34)的外侧端设置有与其滑动配合的活动板(35),所述活动板(35)的底部对称设置有滑柱(36),所述下料辊(31)的内部开设有调节通腔(37),所述滑柱(36)均贯穿下料辊(31)内部并延伸至调节通腔(37)的内部,所述调节通腔(37)的内部设置有调节组件。

全文数据:

权利要求:

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