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毛细聚集效应诱导限域重结晶制备异质图案化阵列的方法 

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申请/专利权人:北京蕴超仿生智能科技发展有限公司

摘要:本发明提供毛细聚集效应诱导限域重结晶制备异质图案化阵列的方法,使用喷墨打印将前驱液打印在硅柱阵列顶部,在开放的环境中干燥后微柱顶部形成无序多晶膜阵列,在微柱顶部覆盖一层衬底,施压使微柱顶部和衬底之间的缝隙达到百纳米左右,形成衬底前驱体分子硅柱三明治组装体系,然后放在前驱液对应溶剂的饱和蒸汽氛围中,由于毛细聚集效应饱和蒸汽优先在微柱顶和衬底之间的缝隙处聚集并溶解材料得到相互独立的柱顶液桥阵列,柱间凹槽没有液体,相邻微柱顶部的不同材料的液桥不会互相串扰,在硅柱诱导下限域重结晶。本方法利用毛细聚集效应调控打印有不同材料的柱顶毛细聚集形成独立的液桥而不互相串扰,限域重结晶后实现单晶阵列异质图案化。

主权项:1.一种毛细聚集效应诱导限域重结晶制备异质图案化阵列的方法,其特征在于:包括以下步骤:S11、喷墨打印:使用喷墨打印的方法将前驱液打印在硅柱阵列顶部,所述硅柱阵列顶部的液体在开放的环境中干燥形成无序多晶膜阵列;所述硅柱阵列包括排列在硅柱模板上的至少两个硅柱,所述硅柱侧壁疏水、所述硅柱顶部亲水;所述膜阵列为非晶阵列,所述前驱液包括至少两种,不同列硅柱上的单晶微结构成分不同;S12、毛细聚集诱导柱顶浸润:在所述硅柱阵列的上表面覆盖一层衬底,施加压力使所述硅柱阵列顶部和所述衬底之间的缝隙达到百纳米级别,得到衬底前驱体分子硅柱三明治结构,然后将所述衬底前驱体分子硅柱三明治结构放在密封容器内,所述密封容器中设置所述前驱液对应溶剂的饱和蒸汽,饱和蒸汽在所述硅柱阵列顶部和所述衬底之间的空隙处聚集使所述膜阵列重新溶解,得到柱顶聚集液体的组装体系;S13、退浸润:将所述柱顶聚集液体的组装体系放在烘箱里退浸润,使所述硅柱顶部的气~液~固三相线在退浸润的过程中定向移动以诱导晶体的定向生长,在所述硅柱阵列顶部得到异质图案化单晶微结构;S14、多次重结晶:返回步骤S11,直至得到异质图案化阵列,所述异质图案化阵列的制备完成;所述前驱液包括无机可溶性材料和有机可溶性材料;所述无机可溶性材料的材质为可溶性无机盐类;所述有机可溶性材料的材质为:稠环芳烃及其衍生物和杂环小分子及其衍生物,所述稠环芳烃及其衍生物为以下任意一种:稠环芳香烃、单键衍生的稠环芳香烃和以不饱和键拓展共轭体系的稠环小分子衍生物,所述杂环小分子及其衍生物为以下任意一种:硫族杂环寡聚物、硫族杂稠环及四硫富瓦烯衍生物和含氮杂稠环及含氮共轭大环分子;所述前驱液的溶剂为非极性溶剂和极性溶剂,所述非极性溶剂为酯类、芳香烃和烃类溶剂,所述非极性溶剂为以下任意一种:甲苯、氯苯、邻二氯苯、间二甲苯、四氯化碳、二硫化碳、正己烷、正辛烷,所述极性溶剂为以下任意一种:DMF、DMSO、醇类、醛类和水;所述衬底为以下任意一种:硅片、表面有氧化层的硅片、玻璃片、石英片、氧化铟锡导电玻璃、PDMS、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚酰亚胺。

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