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一种适用于光学合成孔径的排布无关的活塞解析方法 

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申请/专利权人:中国科学院光电技术研究所

摘要:本发明公开了一种适用于光学合成孔径的排布无关的活塞解析方法,该方法包括:S110:设置系统相关参数:设置一个已知的固定活塞相位作为调制量,以及一个孔径作为参考孔径;根据光学合成孔径系统的相关参数,设置参考孔径与其余各孔径的空间采样位置,模拟单色光照明下,对点目标的成像过程;S120:采集初始图像,然后以调制量对参考孔径施加调制,从而捕获调制图像作为输入;S130:使用调制图像减去初始图像,得到差值图像,以及对差值图像进行傅里叶变换后得到差值图像的相位分布;S140:根据差值图像的相位分布,得到各子孔径相对参考孔径的活塞误差的解析解。本发明方法针对任何排布的光学合成孔径系统的活塞可以实现高精度解析,且无需额外光学元件。

主权项:1.一种适用于光学合成孔径的排布无关的活塞解析方法,其特征在于,该方法包括:步骤S110:设置系统相关参数:设置一个已知的固定活塞相位作为调制量,以及一个孔径作为参考孔径;根据光学合成孔径系统的相关参数,设置参考孔径与其余各孔径的空间采样位置,模拟单色光照明下,对点目标的成像过程;步骤S120:采集初始图像,然后以调制量对参考孔径施加调制,从而捕获调制图像作为输入;步骤S130:使用调制图像减去初始图像,得到差值图像,以及对差值图像进行傅里叶变换后得到差值图像的相位分布;步骤S140:根据差值图像的相位分布,得到各子孔径相对参考孔径的活塞误差的解析解。

全文数据:

权利要求:

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