龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：成都工具研究所有限公司;贵州大学
摘要：本发明涉及晶态陶瓷涂层技术领域，公开了一种alpha相三氧化二铝铬涂层的制备方法，将预处理后的基体置于镀膜腔室，在真空环境下将基体加热并保持至第一预设温度；利用中频电源，通入第一流量的氩气对基体进行刻蚀后通入第二流量的氩气，采用直流电源对AlCr6040靶进行溅射清洗；三氧化二铝铬涂层沉积过程，控制氧气流量在预设范围内；阴极电源采用高功率脉冲磁控溅射AlCr6040靶，且以独立于阴极电源设置的同步高功率脉冲磁控溅射电源为基体提供偏压；本发明基于磁控溅射技术巧妙设置了分段式能量提供过程，加上特殊选择的靶材，克服了高温才能提供大量能量的技术偏见，实现了通过磁控溅射技术在低温条件下制备出alpha相三氧化二铝铬涂层的技术突破。
主权项：1.一种alpha相三氧化二铝铬涂层的制备方法，其特征在于，所述方法包括：步骤一，基体预处理；将预处理后的基体置于镀膜腔室，在真空环境下将基体加热并保持至第一预设温度；步骤二，参数设定：阴极端分别使用直流电源和高功率脉冲磁控溅射电源作用于不同过程；基体端分别使用中频电源和同步高功率脉冲磁控溅射电源作用于不同过程，其中采用同步高功率脉冲磁控溅射电源为基体提供偏压，偏压为-100V～-200V，偏压脉宽为60～80μs；步骤三，通入第一流量的氩气并利用中频电源对基体进行刻蚀；步骤四，刻蚀结束后，通入第二流量的氩气，采用直流电源对AlCr6040靶进行溅射清洗；其中，第二流量大于第一流量；步骤五，在基体上进行三氧化二铝铬涂层沉积，以氪气为溅射气体，以氧气为反应气体，且控制氧气流量在预设范围内；采用高功率脉冲磁控溅射电源溅射AlCr6040靶，同时采用同步高功率脉冲磁控溅射电源为基体提供偏压；经过预设的涂层生长时间，沉积得到alpha相三氧化二铝铬涂层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 成都工具研究所有限公司 贵州大学 一种alpha相三氧化二铝铬涂层的制备方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号