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申请/专利权人：微软技术许可有限责任公司
摘要：用于HMD设备中的光学显示系统的倾斜表面浮雕光栅在利用非接触光学邻近记录的制造过程中被复制至置于波导基底上的专用光敏感树脂中。记录过程包括通过掩膜将树脂选择性地暴露于紫外光，以通过干涉曝光和聚合作用来在空间上记录光栅结构。随后树脂显影将未曝光的树脂向下排出至波导基底，以移除在曝光后留在光栅沟槽中的平坦表面称为偏斜层。树脂显影减少了菲涅耳反射，否则菲涅耳反射可在偏斜层和波导基底之间的媒介界面产生。菲涅耳反射可能导致衍射效率的损失，并因此减少可以由光学显示系统中的SRG引导的视场。
主权项：1.一种用于使用光学邻近记录来复制表面浮雕光栅SRG的方法，包括：在顶板和底部波导基底之间分配聚合物分散液晶混合物层；在光学邻近所述聚合物分散液晶混合物层处放置掩膜；将来自光源的至少一个记录光束引导至所述掩膜，所述掩膜与所述至少一个记录光束交互，以将所述至少一个记录光束的至少一部分衍射至所述聚合物分散液晶混合物层；在所述聚合物分散液晶混合物层将所述SRG的衍射光栅特征记录到所述波导基底上，其中所记录的衍射光栅特征由根据所述至少一个记录光束的衍射部分形成的干涉曝光产生；以及通过将未干涉曝光的混合物的一个或多个部分基本上向下排出至所述底部波导基底，来显影所述聚合物分散液晶混合物层以实现所述SRG。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 微软技术许可有限责任公司 通过光学邻近记录的倾斜表面浮雕光栅复制
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