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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明的周缘处理装置，包括：设定部，构成为设定处理基片的周缘部的处理参数；和处理部，构成为基于所述处理参数，处理所述处理基片的周缘部。所述设定部构成为在所述处理液对所述处理基片的周缘部的处理宽度的指定值小于规定的阈值的情况下，校正处理液的供给条件，所述处理部还包括：保持部，构成为可旋转地保持所述处理基片；和供给部，基于所述供给条件，从喷嘴向所述处理基片的周缘部供给处理液。根据本发明的周缘处理装置，能够以良好的精度处理被膜的周缘部分。
主权项：1.一种周缘处理装置，其特征在于，包括：设定部，构成为设定处理基片的周缘部的处理参数；和处理部，构成为基于所述处理参数，处理所述处理基片的周缘部，所述设定部构成为在所述处理液对所述处理基片的周缘部的处理宽度的指定值小于规定的阈值的情况下，校正处理液的供给条件，所述处理部还包括：保持部，构成为可旋转地保持所述处理基片；和供给部，基于所述供给条件，从喷嘴向所述处理基片的周缘部供给处理液。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 周缘处理装置、周缘处理方法和计算机可读记录介质
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