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申请/专利权人：吉姆西半导体科技(无锡)股份有限公司
摘要：本申请公开了一种清洗摆臂结构及单片清洗机，包括：底座、摆臂组件、供液组件、喷淋组件、旋转驱动组件；所述摆臂组件设置在所述底座上，所述摆臂组件为空心结构体；所述供液组件的一端穿过所述摆臂组件与所述喷淋组件相连；所述旋转驱动组件和所述摆臂组件相连，所述旋转驱动组件用于驱动所述摆臂组件摆动以带动所述喷淋组件在预设范围内清洗晶圆。本申请提供的清洗摆臂结构及单片清洗机，可以提高晶圆的洁净度和清洗效率。
主权项：1.一种清洗摆臂结构，其特征在于，包括：底座、摆臂组件、供液组件、喷淋组件、旋转驱动组件；所述摆臂组件设置在所述底座上，所述摆臂组件为空心结构体；所述供液组件的一端穿过所述摆臂组件与所述喷淋组件相连；所述旋转驱动组件和所述摆臂组件相连，所述旋转驱动组件用于驱动所述摆臂组件摆动以带动所述喷淋组件在预设范围内清洗晶圆。
全文数据：
权利要求：
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