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申请/专利权人：湖南九山半导体科技有限公司
摘要：本实用新型属于化学气相沉积领域，具体是涉及到一种补气装置及其化学气相沉积炉，其中一种补气装置包括炉体、进气结构以及出气结构；进气结构包括工件外侧补气管和工件内侧补气管；工件内侧补气管沿多个待沉积工件的堆叠方向布置，工件内侧补气管贯穿堆叠为一组中的多个待沉积工件内部设置，工件内侧补气管沿轴线方向布置有若干个侧向出气孔。本实用新型所提供的补气装置，可以使得气体在沉积腔内的均匀性高，可以有效提高待沉积工件表面涂层沉积的质量，还可以保证待沉积工件内壁表面涂层沉积的质量，还适用于多个待沉积工件堆叠布置在炉体内进行气相沉积，进而在提高装炉量，且在提高沉积效率的前提下不影响涂层质量。
主权项：1.一种补气装置，其特征是，包括炉体1、设置在所述炉体1一端的进气结构2以及设置在炉体1另一端的出气结构3；所述进气结构2包括工件外侧补气管21和工件内侧补气管22；所述工件外侧补气管21用于将气体输出至待沉积工件5的外壁；所述工件内侧补气管22沿多个待沉积工件5的堆叠方向布置，所述工件内侧补气管22贯穿堆叠为一组中的多个待沉积工件5内部设置，所述工件内侧补气管22沿轴线方向布置有若干个侧向出气孔221，所述侧向出气孔221用于将气体输出至待沉积工件5的内壁。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖南九山半导体科技有限公司 一种补气装置及其化学气相沉积炉
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