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申请/专利权人：西默有限公司
摘要：光刻系统包括：被配置为发射脉冲式光束的光源；包括光学系统的光刻设备，光学系统被定位为在光学系统的第一侧处接收来自光源的脉冲式光束并且在光学系统的第二侧处发射脉冲式光束；以及耦合到光源和光刻设备的控制系统，控制系统被配置为：接收光学系统的第二侧处的脉冲式光束中的能量的量的指示；确定能量误差；访问初始控制序列，初始控制序列与光源相关联；基于所确定的能量误差和初始控制序列来确定第二控制序列；以及将第二控制序列应用于光源。
主权项：1.一种光学设备，包括：光学系统，适于在所述光学系统的第一侧处接收来自光源的脉冲式光束并且在所述光学系统的第二侧处发射所述脉冲式光束；以及控制系统，被耦合到所述光源，并且被配置为：接收所述光学系统的所述第二侧处的所述脉冲式光束中的能量的量的指示，确定能量误差，所述能量误差基于所接收的能量的量的指示，访问初始控制序列，所述初始控制序列被配置为修正光刻系统的假定能量误差，基于所确定的能量误差和所述初始控制序列来确定第二控制序列，以及将所述第二控制序列应用于所述光源。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西默有限公司 用于光学系统的控制器
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